AKTIE IM FOKUS: ASML ins Minus gedreht - 'Mehr Optimismus fĂŒr 2027 erwartet'
15.04.2026 - 16:53:09 | dpa.deNachdem sie zunĂ€chst mit knapp ĂŒber 1.307 Euro an ihr Rekordhoch von Ende Februar herangelaufen waren, verlieĂ sie der Schwung. Zuletzt verloren sie im Zuge der Telefonkonferenz mit Analysten 4,3 Prozent auf gut 1.229 Euro und landeten auf dem vorletzten Platz im EuroStoxx 50 EU0009658145. In dem Leitindex der Eurozone zĂ€hlen ASML mit einem Plus von gut einem Drittel seit Jahresanfang zu den besten Werten.
Analyst William Beavington von Jefferies sah in der Telefonschalte nichts Besonderes, was die ASML-Papiere hĂ€tte unter Druck setzen können. Möglicherweise habe der Markt aber auf mehr Optimismus vom Konzern vor allem mit Blick auf 2027 gehofft. Letztlich befinde man sich auch in einer zyklischen Abschwungphase. Der Experte rechnet zwar mit moderat steigenden SchĂ€tzungen fĂŒr ASML, hĂ€lt das AufwĂ€rtspotenzial fĂŒr die Aktien aber fĂŒr begrenzt.
Der Chipindustrie-AusrĂŒster profitierte weiterhin vom KI-Boom und war mit ĂŒberraschend viel Schwung in das neue Jahr gestartet. Analysten von Goldman Sachs sprachen von einem besser als erwartet ausgefallenen Quartalsbericht. Der erhöhte Ausblick fĂŒr 2026 spiegele die anhaltend hohe Nachfrage wider.
FĂŒr Sandeep Deshpande von der US-Bank JPMorgan ist das Signal der NiederlĂ€nder entscheidend, dass die Kundennachfrage kurz- und mittelfristig anziehe. Durch die Erhöhung der Jahresziele sieht er allerdings keine Impulse, da der Konsens bereits ambitionierter gewesen sei. Die operativen Gewinnerwartungen an das zweite Quartal dĂŒrften seiner Meinung nach sogar etwas sinken.
Ingo Wermann von der DZ Bank sprach von einem guten Jahresauftakt, betonte aber auch die SchwĂ€che im China-GeschĂ€ft. Dieses leide unter Sanktionen und habe UmsatzeinbuĂen von 23 Prozent und einen RĂŒckgang des Anteils an den Maschinenerlösen von 27 auf 19 Prozent hinnehmen mĂŒssen. Dieser negative Trend könnte sich sogar noch verschĂ€rfen, glaubt der Analyst und verwies auf einen in den USA eingebrachten Gesetzentwurf (US Match Act), der darauf abzielt, den Export von Ă€lteren Lithografiesystemen auf Basis von tiefem ultraviolettem Licht (DUV) nach China stĂ€rker zu beschrĂ€nken. Die modernsten EUV-Anlagen, die mit extrem ultraviolettem Licht arbeiteten, unterlĂ€gen schon lĂ€nger einem Ausfuhrverbot.
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