Thema: Lithografiesystem

TWINSCAN NXE-3600D, EUV-Lithografiesystem

TWINSCAN NXE-3600D von ASML - EUV-Lithografiesystem fĂŒr 5-nm- und 3-nm-Chips

Fotorealistische Studioaufnahme von Lithographiesystem zum Thema ASML Lithographiesystem, ISIN NL0010273215, klare Lichtfuehrung - Foto: THN
Fotorealistische Studioaufnahme von Lithographiesystem zum Thema ASML Lithographiesystem, ISIN NL0010273215, klare Lichtfuehrung - Foto: THN

TWINSCAN NXE-3600D von ASML belichtet 300-mm-Wafer mit 13 5-nm-EUV-Licht nutzt eine Spiegeloptik mit 0 33 NA und erreicht Auflösungen bis rund 13 nm in einem Belichtungsschritt. FĂŒr Halbleiterfertiger ...

ad-hoc-news.de, vor 13 Minuten
Flatlay-Arrangement rund um Lithographiesystem zum Thema ASML Lithographiesystem, ISIN NL0010273215, weiches Oberlicht - Foto: THN
Flatlay-Arrangement rund um Lithographiesystem zum Thema ASML Lithographiesystem, ISIN NL0010273215, weiches Oberlicht - Foto: THN
Flatlay-Arrangement rund um Lithographiesystem zum Thema ASML Lithographiesystem, ISIN NL0010273215, weiches Oberlicht - Foto: THN
Flatlay-Arrangement rund um Lithographiesystem zum Thema ASML Lithographiesystem, ISIN NL0010273215, weiches Oberlicht - Foto: THN