Intel-Durchbruch, High-NA-EUV

Intel-Durchbruch: High-NA-EUV in Massenproduktion ab 15. Juli

Veröffentlicht: 16.07.2026 um 16:44 Uhr, Redaktion boerse-global.de

Intel startet Massenproduktion mit ASMLs neuer High-NA-EUV-Lithografie für Panther-Lake-Chips. Der Schritt bringt technische Vorteile und stärkt Intels Position gegen TSMC.

Intel nutzt als Erster High-NA-EUV von ASML in Serie
Techniker in einem Reinraum bedienen eine große, fortschrittliche ASML-High-NA-EUV-Lithografiemaschine mit leuchtenden Innenkomponenten. Illustration mit AI erstellt übermittelt durch boerse-global.de

Der US-Chipkonzern Intel hat einen technologischen Durchbruch erzielt und als erstes Unternehmen weltweit die neue High-NA-EUV-Lithografie von ASML in der Massenproduktion eingesetzt. Seit dem 15. Juli 2026 werden erste Logik-Chips mit den hochmodernen Belichtungsmaschinen gefertigt – konkret für die Panther-Lake-Prozessoren, die unter der Bezeichnung Core Ultra Series 3 firmieren.

Die Produktion läuft auf dem Intel-18A-Fertigungsprozess im US-Bundesstaat Oregon. Während frühere Chip-Generationen noch auf herkömmliche EUV-Systeme setzten, kommen bei einer Teilserie der Panther-Lake-Prozessoren nun die ASML-TwinScan-EXE-Maschinen zum Einsatz. In Hillsboro wurden ausgewählte Schichten des 18A-Knotens dual-qualifiziert. Das bedeutet: Intel kann die Ausbeute zwischen den neuen High-NA-Scannern und den bestehenden NXE-Plattformen angleichen.

Technischer Quantensprung in der Lithografie

Der Umstieg auf High-NA-EUV ist ein gewaltiger Fortschritt. Die neuen Scanner arbeiten mit einer numerischen Apertur von 0,55 – die bisherigen EUV-Systeme kommen auf 0,33. Die Auflösung steigt dadurch um das 1,7-Fache, die minimale Strukturgröße sinkt von 13 auf 8 Nanometer.

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Intels Weg zu diesem Meilenstein war lang. Das erste kommerzielle High-NA-EUV-System, die EXE:5000, wurde bereits 2024 installiert. Im Dezember 2025 folgte die zweite Generation, die EXE:5200B. Sie schafft 175 Wafer pro Stunde bei einer Überlagerungsgenauigkeit von 0,7 Nanometern – genug Durchsatz für die Massenproduktion.

Jede dieser Maschinen kostet umgerechnet rund 370 Millionen Euro. Branchenbeobachter sehen Intel durch die erfolgreiche Integration nun in einer Führungsposition. Der taiwanische Rivale TSMC wird ähnliche Systeme frühestens 2029 einsetzen.

ASML profitiert von der Nachfrage

Die Intel-Erfolgsmeldung fällt mit starken Geschäftszahlen bei ASML zusammen. Im zweiten Quartal 2026 erzielte der niederländische Ausrüster einen Nettoumsatz von 9,3 Milliarden Euro bei einem Gewinn von 2,9 Milliarden Euro. Angesichts der guten Auftragslage hob ASML seine Jahresprognose für 2026 auf 43 bis 45 Milliarden Euro an.

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Um die erwartete Nachfrage zu bedienen, bereitet ASML die nächste Expansionswelle vor. Neben Intel arbeiten auch Samsung und TSMC an der Einführung der neuen Technologie. ASML kündigte eine Kapazitätserweiterung um 30 Prozent an, um die wachsenden Bestellungen für die EXE-Serie zu stemmen.

Intel Foundry sieht in der High-NA-EUV-Technologie einen entscheidenden Baustein, um im Wettbewerb um leistungsstarke Laptop-Prozessoren die Nase vorn zu behalten. Die Dual-Qualifikation in Oregon stellt sicher, dass das Unternehmen flexibel zwischen verschiedenen Scannertypen wechseln kann – bei gleichbleibend hoher Ausbeute.

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